361 意料之中，意料之外（求订阅）
目录：我有科研辅助系统| 作者：肥美的韭菜| 类别：都市言情
把田晴托付给许秋后，魏兴思继续说道：“激子扩散距离的实验结果，如果和许秋你之前的猜想一致的话，就有希望弄一篇大文章啊……让我想想，现在IDI体系的效率多少？”
“目前为止，效率大约%，”许秋顿了顿，说道：“我已经让邬胜男去合成IDI-4F和IDI-M了，这两个新体系或许可以实现效率的进一步突破。”
“好啊，”魏兴思点点头，“到时候从那两个材料中找一个能和给体材料保持比较小HOMO能级差的高效率体系，然后让冯盛东那边做个TS……” 魏兴思继续说道：“光源那边，GIXS测试是九月份吧，另外一个共振软X射线散射（R-SoXS）呢，什么时候可以测？”
许秋回应道：“R-SoXS的话，这次我打算等他们上班后，申请一个紧急机时。至于R-SoXS九月份正常机时的申请材料，我已经让莫文琳写好了，不过就算评审通过，也要明年才能够有正式的机时。”
“那行，”魏兴思又补充了一点：“到时候你们也别忘了做NIM的检测。”
许秋点点头，整体来看魏老师的想法和他基本一致，就是整合多个亮点一起冲击一篇大文章。
只是许秋不知道魏老师打算投什么期刊，当然这也是因为两个人的视角不同，他是知道新体系效率必破13%的，而魏老师并不知道，所以现在对方没有起高调也很正常。 在投文章的事情上，魏兴思通常都较为保守，他不想反复修改或是转投。
韩嘉莹上周N的文章已经投出，简单汇报了实验方面的进展：“J2、J3都已经合成完毕，不过性能还没有来的及测试。”
魏兴思点点头：“行，这周抓紧时间测试一番。”
韩嘉莹继续说道：“对了，还有许秋给我安排了ITI-Th体系的工作。”
魏兴思没有太过讶异：“可以，具体的分配你们自己商量着来就行。” 邬胜男上周主要在做合成，就没有准备PPT，口头汇报道：
“因为上周帮许秋合成IDI-4F、IDI-M，所以原计划修改中央D单元合成4TI、IHI等体系的实验暂时搁置了……”
“现在IDI-4F、IDI-M还没有合成出来，不过明后天应该就能够拿到手……”
“另外，许秋还让我负责m-ITI的工作，以及IT-M、IT-2F、IT-2l和IT-4l四合一的工作。”
魏兴思“嗯”了一声，随后有些惊讶的回头看了看许秋。‘很有魄力嘛，一共合成了六个体系，四个工作，就送出了三篇文章，自己只留下IDI一个。’ 魏兴思把自己代入许秋的位置，自认为不会把这么多工作拱手让人，然后自己只留下一篇的，可能这就是两人的区别吧，现在不得不承认的是，许秋单论科研成果产出的能力，其实已经超过了自己。
最后，莫文琳收尾汇报：
“上周我对H22:ITI：IIO以及J1:ITI:PDI4-B4T，两种三元共混体系进行器件测试和基础表征，结果表明……”
“同时，我还产生了若干个三元体系的思路，包括J2:IDI-4F:IIO-4F……”
莫文琳洋洋洒洒的列出来十多种三元体系，毕竟三元这个东西就是碰运气，多试一试总没有问题的。 反正实验操作上也没太多的难度，只需要先把溶液都配制出来，然后每种溶液先涂两片器件进行试水。如果效率有惊喜，那么就进行深入研究，如果性能平平无奇，那么就把这个体系直接舍弃，或者再给它一次机会，都可以。
组会结束，放假前投的几篇文章，除了段云被拒的那篇外，其他的现在一篇都没有消息，不过算算时间，应该也快回来了，就在这几周里。
下午，许秋安排莫文琳带着田晴进行激子结合能的测试，他随意给了她们一个IT-4F的体系作为入门，这也将是田晴之后的主要工作，即把每一种新的给体或受体材料的激子结合能、激子扩散距离等性能摸清，构建起一套数据库。
其实，现在组里有机光伏领域的架构，已经接近于大课题组的模式，那就是明确的分工合作，许秋负责统筹，下面每个人负责一个小的具体方向，最终统一整合在一起，不似最初吴菲菲、陈婉清、田晴、段云那样，四个人四个研究方向，各自为战。
韩嘉莹开始制备器件，摸索J2、J3材料的性能，陈婉清继续划水、撰写论文，邬胜男则跑到张疆做合成，现在非富勒烯受体材料的合成主要交由了她进行。
许秋准备进行ITI激子扩散距离的数据处理、拟合，在这之前，他还需要确认样品的膜厚。
之前通过样品吸光度反推厚度的前提，是某一吸光度下的样品厚度已知，而薄膜都是几纳米、几十纳米、一百纳米的尺度，不可能用尺子量厚度。
许秋打算采用的方法是扫描电子显微镜（SM），这是一种常用的确认微纳米级别样品厚度测试手段，其他手段还包括椭偏仪、台阶仪、原子力显微镜等等。
SM测试厚度的原理是扫描样品的断裂面，直接读出厚度信息，具体实验方法，就是先把样品旋涂在玻璃片上，然后用玻璃刀将基底从中间划开，接着再掰断，最后用SM扫描、拍照。
当然，这个方法也是有限制的。
如果采用这个方法，测试一百纳米级别的薄膜，问题不大，但如果是几纳米的薄膜，难度相对就比较大了，因为基本上达到了SM的分辨率极限，尤其材一一楼的SM还是早期快被淘汰的产品，分辨率就更差了。
于是，许秋故意涂了两片厚厚的ITI和IDI“薄膜”，其中，IDI属于未雨绸缪，今天虽然用不上，但之后肯定能够用得上。
根据旋涂是溶液的浓度和转速，许秋初步估计，两者的膜厚应该都超过了100纳米，反正现在又不是在制备器件，只要保证薄膜是均匀的即可。
SM测试，顺利完成。
晚上，许秋拿到了最终的拟合结果，ITI的激子扩散距离为纳米。
这个结果比较符合他的预期，属于意料之中的结果。
根据文献报道，标样P3HT材料的激子扩散距离大约为10纳米左右，ITI体系无法制备厚膜、大尺寸器件，那么其激子扩散距离和传统聚合物给体材料体系相当，也很容易理解。
周二，许秋继续进行IDI体系的激子扩散距离测试，最终拟合结果表明，IDI的激子扩散距离是纳米。
这个就属于意料之外的结果。
IDI和ITI，激子扩散距离分别是和纳米，两者之间虽然有所差距，但只相差17%左右，这个差距不足以完全解释，为什么IDI体系可以制备大尺寸、厚膜器件，而另一个ITI体系不能。
许秋分析出两种可能：
其一，之前的推论过程可能有问题，需要重新进行论证；其二，由90个数据点得到的实验数据不够，拟合结果的误差较高。
前者很容易理解，后者是因为在实验过程中，数据都是有所波动的，而且有时候会出现一些数据异常的点，或者说“奇异点”。
如果不舍去奇异点的话，最终拟合结果很可能会和实际结果偏差很大，但如果舍去奇异点的话，怎么定义奇异点就是一个问题，主观成分很大。
换句话说，在数据拟合的过程中，存在着很大操作空间，有时候真的是想要什么数据，就能拟合出来什么数据。
就比如一组数，10、15、20、25、30，平均值是20，假如把10认为是奇异点给舍去了，剩下的四个数据，平均值就变化为了。
在线性拟合中，这种操作对结果的影响还算比较小，而现在激子扩散距离的拟合是非线性的，如果强行去掉几个不那么“奇异”的“奇异点”，IDI体系最终拟合出来的纳米的结果，变更为纳米都是可以实现的。
当然，许秋只是怀疑拟合结果存在误差，如果真实的结果就是他测试出来那样，他肯定不会进行“操作”的。
因为这种事情一旦开了头，就没有回头路可走了，只能不断编织谎言，用一个谎言去粉饰另外一个谎言。
反正，就算分析不出来IDI体系可以制备厚膜的原因，把真实的情况报道出来也好。
只要真诚一点说：“我们发现了一种独特的实验现象，但现在还无法解释”，然后可以把这个问题留给其他研究者，或者将来的自己来解决。
在确定了这个基调后，许秋将ITI、IDI的激子扩散距离测试实验，交由模拟实验室，进行大批量的重复。
周三上午，许秋拿到了模拟实验室测试的结果。
经过数百个实验数据的拟合，最终的结果表明，ITI、IDI的激子扩散距离分别为纳米和纳米。
这样看来，之前拟合结果因为数据量不足，确实是存在一定误差的。
而且，现在一增一减之下，ITI和IDI的激子扩散距离数值结果被拉开了大约48%的差距，这个幅度已经不算小了。
因此，可以保留之前结论，认为激子扩散距离的提高是“器件性能对厚度、尺寸不敏感”的主要原因之一。
“目前为止，效率大约%，”许秋顿了顿，说道：“我已经让邬胜男去合成IDI-4F和IDI-M了，这两个新体系或许可以实现效率的进一步突破。”
“好啊，”魏兴思点点头，“到时候从那两个材料中找一个能和给体材料保持比较小HOMO能级差的高效率体系，然后让冯盛东那边做个TS……” 魏兴思继续说道：“光源那边，GIXS测试是九月份吧，另外一个共振软X射线散射（R-SoXS）呢，什么时候可以测？”
许秋回应道：“R-SoXS的话，这次我打算等他们上班后，申请一个紧急机时。至于R-SoXS九月份正常机时的申请材料，我已经让莫文琳写好了，不过就算评审通过，也要明年才能够有正式的机时。”
“那行，”魏兴思又补充了一点：“到时候你们也别忘了做NIM的检测。”
许秋点点头，整体来看魏老师的想法和他基本一致，就是整合多个亮点一起冲击一篇大文章。
只是许秋不知道魏老师打算投什么期刊，当然这也是因为两个人的视角不同，他是知道新体系效率必破13%的，而魏老师并不知道，所以现在对方没有起高调也很正常。 在投文章的事情上，魏兴思通常都较为保守，他不想反复修改或是转投。
韩嘉莹上周N的文章已经投出，简单汇报了实验方面的进展：“J2、J3都已经合成完毕，不过性能还没有来的及测试。”
魏兴思点点头：“行，这周抓紧时间测试一番。”
韩嘉莹继续说道：“对了，还有许秋给我安排了ITI-Th体系的工作。”
魏兴思没有太过讶异：“可以，具体的分配你们自己商量着来就行。” 邬胜男上周主要在做合成，就没有准备PPT，口头汇报道：
“因为上周帮许秋合成IDI-4F、IDI-M，所以原计划修改中央D单元合成4TI、IHI等体系的实验暂时搁置了……”
“现在IDI-4F、IDI-M还没有合成出来，不过明后天应该就能够拿到手……”
“另外，许秋还让我负责m-ITI的工作，以及IT-M、IT-2F、IT-2l和IT-4l四合一的工作。”
魏兴思“嗯”了一声，随后有些惊讶的回头看了看许秋。‘很有魄力嘛，一共合成了六个体系，四个工作，就送出了三篇文章，自己只留下IDI一个。’ 魏兴思把自己代入许秋的位置，自认为不会把这么多工作拱手让人，然后自己只留下一篇的，可能这就是两人的区别吧，现在不得不承认的是，许秋单论科研成果产出的能力，其实已经超过了自己。
最后，莫文琳收尾汇报：
“上周我对H22:ITI：IIO以及J1:ITI:PDI4-B4T，两种三元共混体系进行器件测试和基础表征，结果表明……”
“同时，我还产生了若干个三元体系的思路，包括J2:IDI-4F:IIO-4F……”
莫文琳洋洋洒洒的列出来十多种三元体系，毕竟三元这个东西就是碰运气，多试一试总没有问题的。 反正实验操作上也没太多的难度，只需要先把溶液都配制出来，然后每种溶液先涂两片器件进行试水。如果效率有惊喜，那么就进行深入研究，如果性能平平无奇，那么就把这个体系直接舍弃，或者再给它一次机会，都可以。
组会结束，放假前投的几篇文章，除了段云被拒的那篇外，其他的现在一篇都没有消息，不过算算时间，应该也快回来了，就在这几周里。
下午，许秋安排莫文琳带着田晴进行激子结合能的测试，他随意给了她们一个IT-4F的体系作为入门，这也将是田晴之后的主要工作，即把每一种新的给体或受体材料的激子结合能、激子扩散距离等性能摸清，构建起一套数据库。
其实，现在组里有机光伏领域的架构，已经接近于大课题组的模式，那就是明确的分工合作，许秋负责统筹，下面每个人负责一个小的具体方向，最终统一整合在一起，不似最初吴菲菲、陈婉清、田晴、段云那样，四个人四个研究方向，各自为战。
韩嘉莹开始制备器件，摸索J2、J3材料的性能，陈婉清继续划水、撰写论文，邬胜男则跑到张疆做合成，现在非富勒烯受体材料的合成主要交由了她进行。
许秋准备进行ITI激子扩散距离的数据处理、拟合，在这之前，他还需要确认样品的膜厚。
之前通过样品吸光度反推厚度的前提，是某一吸光度下的样品厚度已知，而薄膜都是几纳米、几十纳米、一百纳米的尺度，不可能用尺子量厚度。
许秋打算采用的方法是扫描电子显微镜（SM），这是一种常用的确认微纳米级别样品厚度测试手段，其他手段还包括椭偏仪、台阶仪、原子力显微镜等等。
SM测试厚度的原理是扫描样品的断裂面，直接读出厚度信息，具体实验方法，就是先把样品旋涂在玻璃片上，然后用玻璃刀将基底从中间划开，接着再掰断，最后用SM扫描、拍照。
当然，这个方法也是有限制的。
如果采用这个方法，测试一百纳米级别的薄膜，问题不大，但如果是几纳米的薄膜，难度相对就比较大了，因为基本上达到了SM的分辨率极限，尤其材一一楼的SM还是早期快被淘汰的产品，分辨率就更差了。
于是，许秋故意涂了两片厚厚的ITI和IDI“薄膜”，其中，IDI属于未雨绸缪，今天虽然用不上，但之后肯定能够用得上。
根据旋涂是溶液的浓度和转速，许秋初步估计，两者的膜厚应该都超过了100纳米，反正现在又不是在制备器件，只要保证薄膜是均匀的即可。
SM测试，顺利完成。
晚上，许秋拿到了最终的拟合结果，ITI的激子扩散距离为纳米。
这个结果比较符合他的预期，属于意料之中的结果。
根据文献报道，标样P3HT材料的激子扩散距离大约为10纳米左右，ITI体系无法制备厚膜、大尺寸器件，那么其激子扩散距离和传统聚合物给体材料体系相当，也很容易理解。
周二，许秋继续进行IDI体系的激子扩散距离测试，最终拟合结果表明，IDI的激子扩散距离是纳米。
这个就属于意料之外的结果。
IDI和ITI，激子扩散距离分别是和纳米，两者之间虽然有所差距，但只相差17%左右，这个差距不足以完全解释，为什么IDI体系可以制备大尺寸、厚膜器件，而另一个ITI体系不能。
许秋分析出两种可能：
其一，之前的推论过程可能有问题，需要重新进行论证；其二，由90个数据点得到的实验数据不够，拟合结果的误差较高。
前者很容易理解，后者是因为在实验过程中，数据都是有所波动的，而且有时候会出现一些数据异常的点，或者说“奇异点”。
如果不舍去奇异点的话，最终拟合结果很可能会和实际结果偏差很大，但如果舍去奇异点的话，怎么定义奇异点就是一个问题，主观成分很大。
换句话说，在数据拟合的过程中，存在着很大操作空间，有时候真的是想要什么数据，就能拟合出来什么数据。
就比如一组数，10、15、20、25、30，平均值是20，假如把10认为是奇异点给舍去了，剩下的四个数据，平均值就变化为了。
在线性拟合中，这种操作对结果的影响还算比较小，而现在激子扩散距离的拟合是非线性的，如果强行去掉几个不那么“奇异”的“奇异点”，IDI体系最终拟合出来的纳米的结果，变更为纳米都是可以实现的。
当然，许秋只是怀疑拟合结果存在误差，如果真实的结果就是他测试出来那样，他肯定不会进行“操作”的。
因为这种事情一旦开了头，就没有回头路可走了，只能不断编织谎言，用一个谎言去粉饰另外一个谎言。
反正，就算分析不出来IDI体系可以制备厚膜的原因，把真实的情况报道出来也好。
只要真诚一点说：“我们发现了一种独特的实验现象，但现在还无法解释”，然后可以把这个问题留给其他研究者，或者将来的自己来解决。
在确定了这个基调后，许秋将ITI、IDI的激子扩散距离测试实验，交由模拟实验室，进行大批量的重复。
周三上午，许秋拿到了模拟实验室测试的结果。
经过数百个实验数据的拟合，最终的结果表明，ITI、IDI的激子扩散距离分别为纳米和纳米。
这样看来，之前拟合结果因为数据量不足，确实是存在一定误差的。
而且，现在一增一减之下，ITI和IDI的激子扩散距离数值结果被拉开了大约48%的差距，这个幅度已经不算小了。
因此，可以保留之前结论，认为激子扩散距离的提高是“器件性能对厚度、尺寸不敏感”的主要原因之一。
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